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TR 1. CMOS,分立器件,功率器件,GeSi和埋层等 2.外延晶片直径:100,125,150,200 mm
3.月产能超过30万件
4,10个清洁车间
5.外延炉:
LPE3061
LPE2061S
CSD EpiPro 5000
ASM Epsilon2000
630A
680A
E200C
6,硅源:
三氯氢硅 二氯硅烷 7. Dopant:
硼烷 膦 砷烷烃 8.增长模式: 气压 减压 9.客户特定参数
10.碳化硅外延 4“N型
6“N型
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